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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)技術(shù)PTFE等離子體孔薄膜界面粘接性能表面處理

誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)技術(shù)PTFE等離子體孔薄膜界面粘接性能表面處理:
        PTFE微孔膜具有穩(wěn)定的化學(xué)性能,耐高溫、耐腐蝕,優(yōu)良的抗水、疏油性能,對(duì)高溫、高濕、高腐蝕以及特殊氣體中的機(jī)液等均有良好的過濾性能,可廣泛應(yīng)用于冶金、化工、煤炭、水泥等行業(yè)的除塵過濾,是一種耐高溫復(fù)合濾料的薄膜材料。但它極低的表面活性、突出的不粘滯性使它很難與基材復(fù)合,從而限制了它的應(yīng)用。

plasam

       誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)又稱刻蝕機(jī),等離子平面蝕刻機(jī),等離子表面處理儀,等離子清洗系統(tǒng)等。誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)技術(shù)是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)的氣體形成等離子體,產(chǎn)生離子體并釋放出由高能電子組成的氣體,形成等離子體或離子,當(dāng)離子體原子通過電場(chǎng)加速時(shí),釋放出的力足以緊貼材料或蝕刻表面,使之與表面驅(qū)動(dòng)力結(jié)合。在一定程度上,誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)清洗實(shí)際上是等離子蝕刻過程中的一種輕微現(xiàn)象。干燥蝕刻處理設(shè)備包括反應(yīng)室,電源,真空等部分。工件被送到反應(yīng)室,氣體被引入等離子體,并進(jìn)行交換。等離子體的蝕刻過程本質(zhì)上是一個(gè)活躍的等離子過程。近來,反應(yīng)室里出現(xiàn)了一種擱置形式,使用者可以靈活地移動(dòng)它來配置合適的誠(chéng)峰plasam蝕刻機(jī)方法:反應(yīng)性等離子體(RIE)、順流等離子體(downstream)和直接等離子體(directionplasma)。

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誠(chéng)峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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