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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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玻璃基板用等離子體設(shè)備處理非但不改變表面活性還起到清潔效果

玻璃基板用等離子體設(shè)備處理非但不改變表面活性還起到清潔效果:
       當(dāng)玻璃基板處于等離子體中時(shí),由于表層受到等離子體中荷能粒(電)子的轟擊,基板表面吸附的條件氣體、水蒸汽和污垢首先被轟炸,使表層潔凈活化,表層得到改善。沉積時(shí),薄膜原子或大分子更好地滲透基板,增加范德華力。其次,玻璃基板表層受到荷能粒(電)子的沖擊,從微觀上看看,基板表層會(huì)建立許多凹坑和孔隙。在沉積過程中,薄膜原子或大分子進(jìn)入這些凹坑,產(chǎn)生機(jī)械鎖緊力。此外,基板表層的粗化增加了實(shí)際表面積,有利于增加范德華力、擴(kuò)散附著力和靜電力,從而增加了整體附著力。

等離子體設(shè)備

       玻璃用等離子體設(shè)備處理后,基板表層潔凈活化,改善表層,不僅有效清除吸附在玻璃基板上的條件氣體大分子、水蒸汽和污垢,在基板表層建立潔凈活化的微粗燥表層,而且避免二次污染。
       用等離子體設(shè)備處理工程技術(shù)主要利用各種表面涂層和表面改性技術(shù),賦予基體材料所不具備的特殊機(jī)械、物理或化學(xué)性能。如高硬度、高耐磨性、耐腐蝕性、耐高溫氧化性、抗輻射性等。此外,用等離子體設(shè)備表面工程技術(shù)是一種涉及機(jī)械、電子、化工、物料、真空、冶金、表層物理、固體物理、等離子體物理、電化學(xué)等學(xué)科的邊緣技術(shù)。它融入了這些學(xué)科的理論和最新的技術(shù)成果中。


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