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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

CRF真空等離子體清洗機(jī)通入不同的氣體都有什么用途

CRF真空等離子體清洗機(jī)通入不同的氣體都有什么用途:
       在使用CRF在真空等離子體清洗機(jī)改性物體之前,首先對(duì)物體和污垢進(jìn)行分析和清洗,然后選擇氣體。根據(jù)等離子體的作用原理,可選氣體可分為兩類。一種是氫、氧等反應(yīng)性氣體,主要用于清潔金屬表面的氧化物并恢復(fù)反應(yīng)。真空等離子體清洗機(jī)主要用于清洗物體表面的有機(jī)物并發(fā)生氧化反應(yīng)。另一種是真空等離子體清洗機(jī)通過(guò)氬、氦、氮等非反應(yīng)性氣體。氮等離子體處理可以提高數(shù)據(jù)的硬度和耐磨性。

真空等離子體清洗機(jī)

一,CRF真空等離子體清洗機(jī)清洗金屬外觀
       金屬表面常有油脂、油污等有機(jī)物和氧化層,濺射、油漆、粘結(jié)、粘結(jié)、焊接、銅焊和PVD,CVD涂層前,需要真空等離子體處理,以獲得完全清潔和無(wú)氧化層的外觀。在這種情況下,等離子體處理具有以下功能:
氧化物去除金屬氧化物與處理氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。這種處理應(yīng)該是氫或氫和氬的混合物。有時(shí)還有兩個(gè)步驟。首先,氧化第二步是用氫和氬的混合物去除氧化層。幾種氣體也可以一起處理。
二,CRF真空等離子體清洗機(jī)等離子體刻蝕
       在真空等離子體蝕刻過(guò)程中,蝕刻物通過(guò)處理氣體變成氣相。真空泵提取處理氣體和基質(zhì),外觀覆蓋新鮮處理氣體。蝕刻部分不被數(shù)據(jù)覆蓋。
       真空等離子體清洗機(jī)也用于蝕刻塑料外觀,可通過(guò)氧氣灰化填充混合物,共同分布和分析情況。真空等離子體蝕刻作為塑料印刷和粘合的預(yù)處理技術(shù)非常重要,如POM,PPS和PTFE。等離子體處理可大大增加粘結(jié)潤(rùn)濕面積。

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