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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

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誠(chéng)峰表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對(duì)AP粉體表層做好改性

誠(chéng)峰表層等離子體表面處理儀選用低溫plasma工藝對(duì)AP粉體表層做好改性:
       高氯酸銨作為一種新型氧化劑,常用于復(fù)合固體推進(jìn)劑、改性雙基推進(jìn)劑和硝酸酯熱塑性樹(shù)脂聚醚多元醇(NEPE)推進(jìn)劑,有著氧含量高、焓大、熱穩(wěn)定性高等優(yōu)點(diǎn)。目前,為了提高推進(jìn)劑的燃燒速度,超細(xì)高氯酸銨已廣泛應(yīng)用于推進(jìn)劑中。
但隨著粒度的減小,比表面積的增大,超細(xì)AP粉有著很強(qiáng)的吸水性,容易聚集成塊狀,嚴(yán)重影響推進(jìn)劑的使用成效。在硝化棉(NC)上覆覆AP后,超細(xì)AP吸水性能下降,有效解決了超細(xì)AP起塊問(wèn)題。挑選了對(duì)超細(xì)粉AP做好復(fù)合改性,使改性材料有著不錯(cuò)的防起塊成效,在工業(yè)上有著應(yīng)用前景,誠(chéng)峰表層CRF等離子體表面處理儀法也有了它的發(fā)揮空間。

等離子體表面處理儀

       采用聚苯乙烯(PS)和12氟庚基三叔丁基氯硅烷(FAS)遮蓋高氯酸銨,得到AP/PS/FAS復(fù)合膜,減少了AP的吸水性。這類(lèi)辦法的相似之處是對(duì)AP做好覆蓋改性,但用過(guò)多,有可能使推進(jìn)劑容量減少,從而影響到其使用,因此研究新型AP表面處理辦法顯得尤為重要。
       CRF誠(chéng)峰表層等離子體表面處理儀低溫plasma工藝可以將活性基團(tuán)引入粉體表層或形成保護(hù)膜,從而提高粉體的分散性、相容性和力學(xué)性能。該工藝有著工藝簡(jiǎn)單、效率高、連續(xù)性強(qiáng)、無(wú)溶劑、環(huán)境污染小等優(yōu)點(diǎn)。

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