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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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plasma電源

CRF-APO-R&D-RXX

可選配多種類型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶使用空間;

可ln-Line式安裝于客戶設(shè)備產(chǎn)線中,減少客戶投入成本;

使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;

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設(shè)備詳細(xì)數(shù)據(jù)

等離子清洗機(jī)等離子體處理儀主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

等離子體清洗是提升產(chǎn)品產(chǎn)出率必經(jīng)之路。倒裝芯片機(jī)器設(shè)備在市場(chǎng)上愈來(lái)愈引人注目,等離子技術(shù)在穿透模具的細(xì)微空隙層面有著無(wú)法比擬的優(yōu)勢(shì),不管物件體積尺寸如何,表層均可被激活和活化。

等離子體處理系統(tǒng)能夠提供迅速,勻稱的清洗或剝離效果。等離子體處理儀清洗過(guò)程是由濃度較高的自由基、密度低等離子體加溫而成。良好的勻稱性保持好的加工工藝操縱控制與在單個(gè)基板上運(yùn)行實(shí)際操作是十分關(guān)鍵的。


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    認(rèn)真對(duì)待每一次設(shè)備試驗(yàn)

  • 嚴(yán)格的質(zhì)量控制

    設(shè)備出廠前連續(xù)24小時(shí)運(yùn)行調(diào)試

  • 完善的服務(wù)體系

    集研發(fā)、制造、銷售以及售后服務(wù)為一體的等離子設(shè)備高新技術(shù)企業(yè)

  • 服務(wù)行業(yè)領(lǐng)域廣泛

    專注等離子研發(fā)20年,服務(wù)多種行業(yè)

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    完全按照客戶需求制作設(shè)備

多項(xiàng)專利證書(shū),廠家實(shí)力認(rèn)證

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