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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

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AP等離子電源

CRF-APO-R&D-RXX

常壓等離子表面處理機(jī)可選配多種類(lèi)型等離子噴槍和噴嘴,使用于不同場(chǎng)合,滿(mǎn)足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境;

設(shè)備尺寸小巧,方便攜帶和移動(dòng),節(jié)省客戶(hù)使用空間;

可In-Line式安裝于客戶(hù)設(shè)備產(chǎn)線(xiàn)中,減少客戶(hù)投入成本;

使用壽命長(zhǎng),保養(yǎng)維修成本低,便于客戶(hù)成本控制。

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名稱(chēng) 噴射型AP等離子處理系統(tǒng)
等離子電源型號(hào) CRF-APO-R&D-RXX
旋轉(zhuǎn)噴式等離子噴槍型號(hào) 旋噴式:RXXOption:20mm-80mm
電源 220V/AC,50/60Hz
功率 1000W/25KHz(Option
功率因素 0.8
處理高度 5-15mm
處理寬幅 旋噴式:20-80mmOption
內(nèi)部控制模式
數(shù)字控制
外部控制模式
啟停I/O
工作氣體
Compressed Air (0.4mpa)/N2(0.2mpa)
電源重量
8kg

應(yīng)用范圍

      等離子體清洗儀清洗機(jī)主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,手機(jī)屏幕的表面處理;連接器表面清洗;通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

      常壓等離子表面處理機(jī)的等離子體與物質(zhì)表層的反應(yīng)關(guān)鍵有二種,一種是由自由基造成的化學(xué)變化,另一種是由等離子體造成物理的反應(yīng)。

      1、化學(xué)變化(Chemical reaction):

      一般用以化學(xué)反應(yīng)的氣體有氫(H2)、氧(O2)、四氟化碳?xì)怏w(CF4)等,這種氣體在常壓等離子表面處理機(jī)等離子中反應(yīng)作為高活性的自由基,并與材料表層進(jìn)一步產(chǎn)生反應(yīng)。它的作用機(jī)制主要是運(yùn)用等離子體中的自由基與材料表層發(fā)生化學(xué)變化,當(dāng)工作壓力很大時(shí),自由基活性高運(yùn)動(dòng)激烈,因而要想使化學(xué)變化占主導(dǎo)性,需要操縱很大的工作壓力才可以開(kāi)展近距的反應(yīng)。

      2、物理反應(yīng)(Physical reaction)

      運(yùn)用等離子體中的離子作純物理學(xué)撞擊,等離子體清洗儀主要是將化學(xué)物質(zhì)表層的分子或粘附化學(xué)物質(zhì)表層的分子擊掉,由于離子在工作壓力較低時(shí),其均值自由基比較輕長(zhǎng),具備一定的動(dòng)能累積,因而,在物理學(xué)撞擊中,離子的動(dòng)能越高,所撞擊的分子越多,若想以物理反應(yīng)為主導(dǎo),則需要較低工作壓力下開(kāi)展反映,使實(shí)際清洗效果更強(qiáng)。等離子清洗機(jī)的原理,關(guān)鍵借助等離子中活性顆粒物的“活性功效”來(lái)做到除去污垢的目地。等離子體清洗一般包含以下過(guò)程:將無(wú)機(jī)氣體激起成為等離子態(tài);氣相物質(zhì)吸咐到固體表層;將吸咐官能團(tuán)與固體表層分子反應(yīng)轉(zhuǎn)化成產(chǎn)物分子;將產(chǎn)物分子結(jié)構(gòu)解析成氣相;反應(yīng)殘余物擺脫表層。等離子體清洗儀技術(shù)的較大特性是,不用區(qū)分需要待清洗目標(biāo)的種類(lèi),對(duì)金屬材料、半導(dǎo)體材料、金屬氧化物和大部分纖維材料,如聚丙稀、聚酯、聚酰亞胺膜、聚氯乙烷、環(huán)氧樹(shù)脂,乃至聚四氟乙烯等,都可以處理獲得相應(yīng)的效果,能夠開(kāi)展總體、局部及繁雜構(gòu)造的清洗。

等離子清洗機(jī)在電子工業(yè)的使用情況
  等離子清洗機(jī),也叫做等離子表面處理儀,是全新的高科技儀器,它利用活性組分的性質(zhì)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理處理,達(dá)到清潔的目的,除了具有清潔的作用外,還能夠進(jìn)行活化和刻蝕等,廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域,下面給大家舉個(gè)例子:在電子工業(yè)清洗中的干法清洗,過(guò)程中需要真空泵制造一定的真空條件滿(mǎn)足清洗所需。下面來(lái)看看等離子清洗機(jī)的作業(yè)流程及注意事項(xiàng)。
  等離子清洗所需要的等離子體主要通過(guò)特定的氣體分子在真空、放電等特殊場(chǎng)合下產(chǎn)生,像低壓氣體輝光等離子體。簡(jiǎn)單地說(shuō),等離子清洗需要在真空狀態(tài)下進(jìn)行(一般需保持在100Pa左右),所以需要真空泵進(jìn)行抽真空作業(yè)。
其主要過(guò)程包括:先將需要清洗的工件送入真空室固定,啟動(dòng)真空泵等裝置開(kāi)始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引入等離子清洗用的氣體(根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,選用的氣體也不同,如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾?,并將壓力保持在100Pa左右;在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電使其發(fā)生離子化,產(chǎn)生等離子體;在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋被清洗工件后,開(kāi)始清洗作業(yè),清洗過(guò)程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

下面具體介紹下使用等離子清洗機(jī)要注意什么。 
1、在開(kāi)啟等離子清洗機(jī)之前,要做好各種準(zhǔn)備工作,首先要對(duì)操作的工作人員進(jìn)行技術(shù)方面的培訓(xùn),讓他們能夠熟練掌握操作的程序,嚴(yán)格按照操作要求進(jìn)行使用。 
2、在正式使用等離子清洗機(jī)之前,要對(duì)它運(yùn)行時(shí)的參數(shù)進(jìn)行正確的設(shè)置,并且要按照儀器的使用說(shuō)明書(shū)去認(rèn)真的執(zhí)行操作,不能隨意地使用。 
3、要保護(hù)好等離子體的點(diǎn)火裝置,這樣才能保證等離子清洗機(jī)正常的開(kāi)啟,要不然會(huì)導(dǎo)致開(kāi)啟困難或者是開(kāi)啟異常等。 
4、如果對(duì)一次風(fēng)管沒(méi)有通風(fēng)的情況下,要保證等離子體的發(fā)生器的運(yùn)行時(shí)間在規(guī)定的時(shí)間內(nèi),不能大于設(shè)備說(shuō)明書(shū)上要求的時(shí)間,要不然會(huì)把燃燒器破壞掉,從而造成很多不必要的損失。
5、要定期進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)。在對(duì)等離子清洗機(jī)進(jìn)行維護(hù)和保養(yǎng)
的時(shí)候,要先把設(shè)備的電源關(guān)閉,待斷電后才能進(jìn)行相應(yīng)的操作,一定不能帶電操作,以防發(fā)生意外。

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