等離子體表層處理工藝是1種干法_取代了傳統(tǒng)的濕式工序

1.等離子體表層處理環(huán)境保護(hù)工藝:等離子體的作用是氣-固相干反應(yīng)，不消耗水資源，不需要添加化學(xué)試劑
2.等離子體表層處理效率高：可以在更短的時(shí)間內(nèi)完成整個(gè)過(guò)程，提高工作效率，使清洗效率大大提高。整個(gè)清洗過(guò)程可在幾分鐘內(nèi)完成，其清洗效率高；
3.等離子體表層處理成本低：設(shè)備簡(jiǎn)單，易于操作和維修，用少量氣體代替了昂貴的清潔劑，同時(shí)無(wú)廢液費(fèi)用；不污染環(huán)境。
4.等離子體表層處理操作更精細(xì)：能夠深入到微孔和凹坑內(nèi)部，完成清潔任務(wù)；
5.等離子體表層處理適用范圍廣：低溫等離子表層處理工藝可以對(duì)大多數(shù)固體物質(zhì)進(jìn)行處理，為此其使用范圍十分普遍。等離子體清洗可不分處理對(duì)象，可處理多種材料，無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物、高分子材料等，均可采用低溫等離子米處理。
6.等離子體表層處理使用等離子清洗可以大大提高清洗效率。整個(gè)清洗過(guò)程可在幾分鐘內(nèi)完成，其清洗效率高；
7.等離子體表層處理在完成清污的同時(shí)，還可以改善材料本身的表面性能。例如改善表面的潤(rùn)濕性、提升粘接性等，在許多使用中都很重要。
伴隨著高科技產(chǎn)業(yè)發(fā)展。不一樣工序?qū)υO(shè)備的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)愈來(lái)愈高，低溫等離子表層處理工藝的出現(xiàn)，不僅改善了設(shè)備性能，提高了生產(chǎn)效率，而且還達(dá)到了安全環(huán)保的目的。離子表層處理工藝廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、聚合物科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域。這一廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域和巨大的發(fā)展空間，促使低溫等離子表層處理在我國(guó)得到了快速的發(fā)展。