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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

20年專注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家

真空等離子清洗機(jī)擁有諸多優(yōu)勢(shì)廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕

真空等離子清洗機(jī)由真空發(fā)生系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、等離子發(fā)生器、真空腔體及相關(guān)機(jī)械等幾個(gè)部分構(gòu)成。應(yīng)用時(shí)可以根據(jù)客戶的要求定制符合客戶需要的真空等離子清洗機(jī)。
真空等離子清洗機(jī)有著眾多優(yōu)點(diǎn):
1、選用數(shù)控加工技術(shù)智能化程度高;
2、具備高精密的操縱設(shè)備,時(shí)間控制精度高;
3、合理的等離子體清理不容易在表層產(chǎn)生損害層,工藝性能得到保證;
4、清理工作中在真空中進(jìn)行,清理流程環(huán)保安(全),不容易造成環(huán)境污染,且合理保證清理表層不容易被二次污染。

真空等離子清洗機(jī)利用兩個(gè)電極形成電磁場(chǎng),用真空泵實(shí)現(xiàn)有效的真空度,隨著氣體越來(lái)越稀薄,分子之間的間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)的距離也越來(lái)越長(zhǎng),受磁場(chǎng)作用發(fā)生碰撞而形成等離子體并產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)的空間運(yùn)動(dòng),并不斷轟擊被處理物體表面,去除表面油污以及表面氧化物、灰化表面有(機(jī))物以及其它化學(xué)物質(zhì),以此達(dá)到表面處理清洗和刻蝕的效(果)。


真空等離子清洗機(jī)

真空離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于表面去污及等離子刻蝕,聚四氟(PTFE)及聚四氟混合物的刻蝕、塑料、玻璃、陶瓷的表面(活)化和清洗、等離子涂鍍聚合等工序,因此廣泛應(yīng)用于汽車領(lǐng)域、電子領(lǐng)域、軍工電子領(lǐng)域、PCB制成行業(yè)等高精密度領(lǐng)域。

真空等離子清洗機(jī)整個(gè)清洗過(guò)程大致如下:
1、首先將被清洗的工件送入真空機(jī)并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)行裝置開(kāi)始排氣,讓真空腔內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要幾分鐘。
2、然后向真空室內(nèi)引入等離子清洗用的氣體,并保持腔內(nèi)壓強(qiáng)穩(wěn)定。根據(jù)清洗材料的不同,可分別使用氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)?、四氟化碳等氣體。
3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿并通過(guò)輝光放電而發(fā)生等離子化和產(chǎn)生等離子體,讓在真空腔內(nèi)產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理的工件并開(kāi)始清洗作業(yè),一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾十(分)鐘不等,根據(jù)處理材質(zhì)的不同而定。
4、清洗完畢后切斷電源,并通過(guò)真空泵將氣體和氣化的污垢抽走排出,清洗結(jié)束。
真空等離子清洗機(jī)擁有諸多優(yōu)勢(shì):如采用數(shù)控技術(shù)自動(dòng)化程度高;具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制精度高;正確的等離子體清洗不會(huì)在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得以保證;清洗工作在真空環(huán)境中進(jìn)行,清洗過(guò)程環(huán)保(安)全,不會(huì)污染環(huán)境,且有效保證清洗表面不會(huì)被二次污染。

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