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CRF plasma 等離子清洗機(jī)

支持材料 測(cè)試、提供設(shè)備 試機(jī)

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誠(chéng)峰等離子體設(shè)備已應(yīng)用于各種電子元件的制造

誠(chéng)峰等離子體設(shè)備已應(yīng)用于各種電子元件的制造:
       在二十世際初,伴隨著高新科技制造業(yè)的快速進(jìn)步,誠(chéng)峰等離子體設(shè)備的應(yīng)用日益廣泛,已經(jīng)進(jìn)入了許多高科技領(lǐng)域,占據(jù)著核心技術(shù)的位置,等離子體設(shè)備清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展和現(xiàn)代文明的影響力較大 ,首推電子資訊工業(yè),特別是半導(dǎo)體與光電工業(yè)。

等離子體設(shè)備

       等離子體設(shè)備已經(jīng)被應(yīng)用到各種電子元件的制造中,我們可以肯定,沒(méi)有等離子設(shè)備及其清洗技術(shù),就不會(huì)有今天如此發(fā)達(dá)的電子、信息、通信制造業(yè)。另外,電漿設(shè)備及其清洗技術(shù)也廣泛應(yīng)用于光學(xué)工業(yè)、機(jī)械和航天工業(yè)、高分子工業(yè),并且是光學(xué)元件鍍膜、耐磨損層、復(fù)合材料中間層、隱含鏡片表面處理等都需要等離子技術(shù)來(lái)開(kāi)發(fā),這些都需要等離子技術(shù)的發(fā)展來(lái)完成。這個(gè)領(lǐng)域是一個(gè)新興的領(lǐng)域,它把等離子物理、等離子化學(xué)、氣固界面的化學(xué)反應(yīng)結(jié)合起來(lái),這是一種需要跨越多個(gè)領(lǐng)域,包括化工、材料、電機(jī)等,這一領(lǐng)域?qū)⒕哂刑魬?zhàn)性和機(jī)遇,而且隨著半導(dǎo)體和光電材料的迅速增長(zhǎng),這一方面的應(yīng)用需求會(huì)越來(lái)越大。
        等離子體設(shè)備形成的絕緣膜的俘獲特性的絕緣膜的半導(dǎo)體基板。在具有這種構(gòu)造的半導(dǎo)體基板上,防止在后工序中的不必要的再氧化,另外對(duì)于被注入的雜質(zhì)具有阻擋。所以,可以得到不容易受半導(dǎo)體制造工序的條件的影響力的、具有穩(wěn)定的絕緣膜的半導(dǎo)體基板。在對(duì)半導(dǎo)體基板進(jìn)行等離子體處理的等離子體設(shè)備,具有半導(dǎo)體基板的處理容器、處理容器導(dǎo)入微波的微波導(dǎo)入部、處理容器供給處理氣體的氣體供給部,處理容器同時(shí)供給氧和氮,半導(dǎo)體基板的表面同時(shí)進(jìn)行氧化處理和氮化處理,形成絕緣膜。

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誠(chéng)峰智造——專注等離子研發(fā)20年

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